等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統(tǒng)、機(jī)械泵、真空密封及測量系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)組成，極...
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
多功能電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是由我團(tuán)隊(duì)成員自主研發(fā)，具有自主知識產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品。本系統(tǒng)具有低溫?zé)o催化生長石墨烯，也可對石墨烯進(jìn)行缺陷檢測與修復(fù)及各向異性刻蝕等功能，也可用于生長其他二維材料。研究成果發(fā)表于各類頂級期刊。
等離子體修飾系統(tǒng)
等離子體修飾系統(tǒng)，利用三溫區(qū)管式爐，通過氧氣輔助化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在藍(lán)寶石襯底上外延生長了大尺寸、高質(zhì)量的單層二硫化鉬薄膜。在生長過程中引入氧氣，不僅能夠有效的阻止三氧化鉬源中...