安裝納米位移臺時，對平臺的水平度有一定要求，這是為了保證其高精度定位性能和長期穩(wěn)定性。以下是常見的要求和建議：
一、平臺水平度的基本要求
水平度誤差建議小于 0.1 mm/m（或0.01°）
對于高精度納米位移系統(tǒng)，平臺表面應盡量保持水平，以避免：
重力對運動部件產生橫向分量，影響精度；
造成負載不均，影響傳動系統(tǒng)的受力；
在閉環(huán)控制系統(tǒng)中引入誤差。
精密應用建議更嚴 如果使用的是壓電型或電容反饋閉環(huán)控制的納米位移臺，建議平臺水平度達到：
≤ 0.05 mm/m 或 ≤ 0.003°（大約10角秒）
二、水平度的重要性體現(xiàn)在哪些方面？
重復定位精度：傾斜會引入慣性變化，影響位移重復性；
負載均衡：重力偏移可能導致運動機構一邊受力大，磨損不均；
反饋誤差：傳感器測量方向與實際運動方向不一致時，誤差增大；
校準基準一致性：水平不準會影響與光學器件、探針、樣品臺等的對準；
三、怎么確保平臺水平？
使用高精度電子水平儀或光學水平儀；
安裝前可在平臺表面墊高精密調整墊片；
使用三點調節(jié)結構進行初調；
對于長期使用環(huán)境，應定期檢查并調整水平狀態(tài)，尤其是在溫濕度波動大的場所。
四、是否絕對要求“完全水平”？
不是“完全”水平，但需要控制在設備說明書的誤差范圍內，尤其是：
行程越大、負載越重、精度越高的納米位移臺，對水平度越敏感；
某些Z軸或傾斜補償位移臺可能可以容忍一定傾斜，但仍建議校正。